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365bet体育未来还可用于制造10纳米级别的芯片

发布时间:2020-02-24 09:40编辑:admin1阅读(

      国内光刻机技术比较先进,已经量产的应该是上海微电子装备有限责任公司(简称SMEE),已经实现90nm的量产,目前正在研究65nm的工艺。

      其他的包括 合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技有限公司、无锡影速半导体科技有限公司等一些企业,在光刻机上衣和有自己的成果。

      也就是中国科学院光电技术研究所的这个成果,直接将中国光刻机技术向前推进好几代。当然,365bet体育平台这个科研成果,距离完整实现量产,还有好几个关卡要过。

      首先是光刻分辨力达到22纳米只是一次极限测试,属于单次曝光,还制造不了芯片。其次是,能够实验室制造芯片,还要实现量产,这又是一个关卡。但总的来说,365bet体育平台已经有了“光刻分辨力达到22纳米”,那么距离成型机,已经没有那么遥远了。

      该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片